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光刻机行业产业链竞争方式阛阓空间及联系公司分析发达

发布日期：2024-11-06 20:16 点击次数：83

1.光刻工艺

（1）集成电路制造历程复杂，光刻为其中要道一环

光刻（Lithography）是指在特定波长光辉的作用下，将狡计在掩膜版上的集成电路图形滚动到硅片表面的光刻胶上的时代工艺。为了完成图形滚动，需要经验千里积、旋转涂胶、软烘、瞄准与曝光、后烘、显影、坚膜烘焙、显影检测等 8 谈工序，检测及格后赓续进行刻蚀、离子注入、去胶等智力，并视需要访佛制程智力，开采芯片的“摩天大楼”。

（2）光刻中枢肠位：1/2 的时辰+1/3 的资本

跟着芯旋即间的发展，访佛智力数增多，先进芯片需要进行 20-30 次光刻，光刻工艺的耗时不错占到整个晶圆制造时辰的 40%-50%，用度约占芯片坐褥资本的 1/3。

2.光刻机

（1）曝光开采运用浮浅，光刻机频频指用于芯片前谈工艺的光刻开采泛半导体光刻时代可分为直写光刻和掩模光刻，直写式光刻精度较低，多用于 IC 后谈封装、低世代线平板长远、PCB 等鸿沟；掩模光刻现在的主流神志为投影式，光刻精度高，可用于 IC 制造的前谈工艺、后谈先进封装和中高世代线的 FPD 坐褥。

（2）光刻机单机价值量高，滋长千亿阛阓空间

2022 年环球晶圆前谈开采销售 941 亿好意思元，光刻机占 17%，是 IC 制造的第三翻开采，但却是单机价值量最大的开采。据 ASML 财报测算，2022 年单台 EUV 价钱约 1.8 亿欧元，浸没式 DUV 约 6500 万欧元。

3.光刻机时代发展历程

光刻机的时代演进主要分为以下几个阶段。

1）UV 光刻机：用于 0.25 微米及以上制程节点，UV 为紫外光，光源类型包括 g-line、i-line 等。

2）干式 DUV 光刻机：可用于 65nm-0.35μm 制程节点，干式 DUV 是指在光刻过程中使用干式透镜和深紫外线光源，该时代在 20 世纪 90 年代初得到了浮浅运用。

3）浸入式 DUV 光刻机：可用于 7nm-45nm 制程节点，跟着芯片制造时代对先进制程的需求握续加多，干式 DUV 光刻机已无法得志其精度条目。浸入式 DUV 光刻机通过把物镜与晶圆之间的填充由空气调动为水，进而取得更高的数值孔径（NA），使光刻机具有更高的分别率与成像智力。

4）Low-NAEUV 光刻机：用于 3nm-7nm 制程节点，EUV 为极紫外光，该光源的波长较此前光源明